九十纳米制程已经是现在市面上出现的最强的生产技术了。虽然大家都知道intel的德性，肯定是销售一代，储备一代，研发一代，他们手里肯定有比九十纳米制程更先进的技术，但是，再怎么跳跃性的突破，也不可能一下子从九十纳米制程提升到四十五纳米这么夸张。

按照总师的了解，因特尔的下一代至强芯片，制程应该在七十纳米到六十五纳米之间，具体数据不清楚，但范围大致明白。而正在研发的新技术，可能会落在五十纳米左右。

郭泰来上来忽然就让测试四十五纳米制程？虽然这次光刻机的设计是按照技术极限来设计的，可是，那得是理想状况下才能够达到的结果。本质上，光刻机作为一台机器，是一定会有制造公差的，这是没有办法的事情。就算是设计再怎么完美，也不可能做到零公差。

根据设计中的计算，这台光刻机如果能够做到完美无瑕，制程应该能在四十纳米左右。可是，随便在零件加工中增加一个纳米的误差，在装配中增加一个纳米的装配误差，无数的零部件组合起来，恐怕带来的误差绝对会超过数十纳米。

九十纳米已经很让人惊喜了，这已经是世界先进水平，代表着国家已经能够追上世界的前沿技术，以后要做的就是突击批量生产的能力，将这种光刻机尽可能快尽可能稳定的生产出来。

总师比谁都清楚，尽管大多数民用的芯片现在已经对华夏解封，但是军用芯片和一些国内急需的通讯加密等一系列专用芯片还是无法拿到手。有了批量生产光刻机的能力，也就意味着国内再也不会被人在芯片上卡脖子，那将是多么美好的事情？

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